发明授权
- 专利标题： Photosensitive resin composition and photosensitive dry film containing the same
- 专利标题（中）： 感光树脂组合物和含有它的感光性干膜
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申请号： US11098429申请日： 2005-04-05
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公开(公告)号： US07402376B2公开(公告)日： 2008-07-22
- 发明人: Syunji Nakazato , Ryuma Mizusawa , Hiroyuki Obiya , Takashi Ono , Yusuke Fujito
- 申请人： Syunji Nakazato , Ryuma Mizusawa , Hiroyuki Obiya , Takashi Ono , Yusuke Fujito
- 申请人地址： JP Kanagawa
- 专利权人： Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- 当前专利权人： Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Kanagawa
- 代理机构： Wenderoth, Lind & Ponack, L.L.P.
- 优先权： JP2004-129327 20040426
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G03F7/004
摘要：
A photosensitive resin composition which gives a dry film having a sand blast proof property and a development property in a well-balanced manner. A photosensitive resin composition containing a carboxy group-containing urethane (meth)acrylate compound having two or more of (meth)acryloyl groups per molecule whose acid value of less than 10 mg KOH/g, an alkali soluble polymer compound, a photopolymerization initiator and a photopolymerizable compound (D) including in the structure thereof a structural unit represented by the formula (I) gives such a well-balanced properties. OCH2CH2 (I)
摘要（中）：
一种感光性树脂组合物，其以良好平衡的方式得到具有防砂性和显影性的干膜。 一种感光性树脂组合物，其含有每分子中具有两个以上（甲基）丙烯酰基的羧基的氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物，其酸值小于10mgKOH / g，碱溶性高分子化合物，光聚合引发剂和 在其结构中包含由式（I）表示的结构单元的光聚合化合物（D）给出了这种良好平衡的性质。 <？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> OCH 2 2 “img id =”PRIVATE-USE-CHARACTER-00002“he =”7.20mm“wi =”8.47mm“file =”US07402376-20080722-Parenclosest.TIF“alt =”private use character Parenclosest“img-content =”character “img-format =”tif“/>（I）<？in-line-formula description =”In-line Formulas“end =”tail“？>
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