发明授权
US07531469B2 Dosimetry using optical emission spectroscopy/residual gas analyzer in conjunction with ion current
有权
结合离子电流使用光发射光谱/残留气体分析仪的剂量学
- 专利标题： Dosimetry using optical emission spectroscopy/residual gas analyzer in conjunction with ion current
- 专利标题（中）： 结合离子电流使用光发射光谱/残留气体分析仪的剂量学
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申请号： US11681313申请日： 2007-03-02
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公开(公告)号： US07531469B2公开(公告)日： 2009-05-12
- 发明人: Kartik Ramaswamy , Seon-Mee Cho , Tsutomu Tanaka , Majeed A. Foad
- 申请人： Kartik Ramaswamy , Seon-Mee Cho , Tsutomu Tanaka , Majeed A. Foad
- 申请人地址： US CA Santa Clara
- 专利权人： Applied Materials, Inc.
- 当前专利权人： Applied Materials, Inc.
- 当前专利权人地址： US CA Santa Clara
- 代理机构： Patterson & Sheridan, LLP
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00
摘要：
The present invention generally provides methods and apparatus for controlling ion dosage in real time during plasma processes. In one embodiment, ion dosages may be controlled using in-situ measurement of the plasma from a mass distribution sensor combined with in-situ measurement from an RF probe.
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