发明授权
- 专利标题： Position measurement system
- 专利标题（中）： 位置测量系统
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申请号： US11353011申请日： 2006-02-14
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公开(公告)号： US07562821B2公开(公告)日： 2009-07-21
- 发明人: Yasuji Seko , Tsutomu Abe , Yoshinori Yamaguchi , Hiroyuki Miyake
- 申请人： Yasuji Seko , Tsutomu Abe , Yoshinori Yamaguchi , Hiroyuki Miyake
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Fuji Xerox Co., Ltd.
- 当前专利权人： Fuji Xerox Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Oliff & Berridge, PLC
- 优先权： JP2005-241638 20050823
- 主分类号： G06K7/10
- IPC分类号： G06K7/10
摘要：
A position measurement system, includes: a plurality of concentric pattern projectors each for projecting a concentric pattern; an image sensor that has a sensor plane and that detects the concentric pattern; and an arithmetic unit that calculates a position of the image sensor and a normal direction of the sensor plane from a detection signal of the image sensor.
公开/授权文献
- US20070045420A1 Position measurement system 公开/授权日：2007-03-01
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