发明授权
- 专利标题： Method for making a thin film layer
- 专利标题（中）： 制造薄膜层的方法
-
申请号： US11201587申请日： 2005-08-11
-
公开(公告)号： US07615501B2公开(公告)日： 2009-11-10
- 发明人: Michael A. Haase , Paul F. Baude , Eric W. Hemmesch
- 申请人： Michael A. Haase , Paul F. Baude , Eric W. Hemmesch
- 申请人地址： US MN St. Paul
- 专利权人： 3M Innovative Properties Company
- 当前专利权人： 3M Innovative Properties Company
- 当前专利权人地址： US MN St. Paul
- 代理商 Harold C. Knecht, III
- 主分类号： H01L21/31
- IPC分类号： H01L21/31
摘要：
A method of making a patterned layer comprises directing a beam of vaporized material toward a reflector such that the beam of vaporized material impinges an impingement surface of the reflector and is redirected from the reflector through one or more apertures in a shadow mask and onto a deposition substrate to form a patterned material layer.
公开/授权文献
- US20070036887A1 Method for making a thin film layer 公开/授权日：2007-02-15
信息查询
IPC分类:
