发明授权
US07660456B2 Mask fabrication supporting method, mask blank providing method, and mask blank dealing system
有权
掩模制造支持方法，掩模空白提供方法和掩模空白处理系统
- 专利标题： Mask fabrication supporting method, mask blank providing method, and mask blank dealing system
- 专利标题（中）： 掩模制造支持方法，掩模空白提供方法和掩模空白处理系统
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申请号： US10592320申请日： 2005-03-07
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公开(公告)号： US07660456B2公开(公告)日： 2010-02-09
- 发明人: Hiroyuki Ishida , Tamiya Aiyama , Koichi Maruyama
- 申请人： Hiroyuki Ishida , Tamiya Aiyama , Koichi Maruyama
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Hoya Corporation
- 当前专利权人： Hoya Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 国际申请： PCT/JP2005/003901 WO 20050307
- 国际公布： WO2005/085951 WO 20050915
- 主分类号： G06K9/00
- IPC分类号： G06K9/00 ; G03F1/00 ; G06F17/50
摘要：
A mask blank is provided by forming a plurality of films, including at least a thin film to be a transfer pattern, on a board. At the time of patterning a resist film of the mask blank according to pattern data, film information to check with a pattern is obtained for each of a plurality of the films.
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