发明授权
- 专利标题： Lithographic apparatus, device manufacturing method, calibration method and computer program product
- 专利标题（中）： 光刻设备，器件制造方法，校准方法和计算机程序产品
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申请号： US10929882申请日： 2004-08-31
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公开(公告)号： US07663741B2公开(公告)日： 2010-02-16
- 发明人: Hans Van Der Laan , Christian Wagner
- 申请人： Hans Van Der Laan , Christian Wagner
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
- 主分类号： G01B9/00
- IPC分类号： G01B9/00 ; G03B27/32 ; G03C5/00
摘要：
To calibrate a lithographic apparatus contrast in the aerial image is measured for a plurality of different settings of available manipulators of the projection system. Appropriate settings of the manipulators are determined as those giving the maximum contrast values.
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