发明授权
- 专利标题： Photosensitive silane coupling agent, method of modifying surface, method of forming pattern, and method of fabricating device
- 专利标题（中）： 光敏性硅烷偶联剂，表面改性方法，成型方法及其制造方法
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申请号： US11705787申请日： 2007-02-14
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公开(公告)号： US07704672B2公开(公告)日： 2010-04-27
- 发明人: Toshiki Ito , Natsuhiko Mizutani , Takako Yamaguchi , Yasuhisa Inao
- 申请人： Toshiki Ito , Natsuhiko Mizutani , Takako Yamaguchi , Yasuhisa Inao
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
- 优先权： JP2006-070001 20060314
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G03F7/004
摘要：
Provided are a photosensitive silane coupling agent for forming a low-defect microparticle pattern, dot array pattern, or hole array pattern through fewer steps, and a method of forming a pattern using such photosensitive silane coupling agent. Used is a photosensitive silane coupling agent comprising a 1,2-naphthoquinone-2-diazido-5-sulfonyl group or a 1,2-naphthoquinone-2-diazido-4-sulfonyl group.
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