发明授权
- 专利标题： Negative resist composition
- 专利标题（中）： 负阻抗组成
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申请号： US10593004申请日： 2005-03-11
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公开(公告)号： US07749677B2公开(公告)日： 2010-07-06
- 发明人: Tomoyuki Ando
- 申请人： Tomoyuki Ando
- 申请人地址： JP Kawasaki-shi
- 专利权人： Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- 当前专利权人： Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Kawasaki-shi
- 代理机构： Knobbe, Martens, Olson & Bear, LLP
- 优先权： JP2004-080481 20040319
- 国际申请： PCT/JP2005/004326 WO 20050311
- 国际公布： WO2005/091073 WO 20050929
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F7/20 ; G03F7/30 ; G03F7/36
摘要：
The negative resist composition of the present invention comprises a silsesguioxane resin (A) comprising a constituent unit (a1) represented by the following general formula (I) and a constituent unit (a2) represented by the following general formula (II), an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, and a crosslinking agent component (C): wherein R1 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and
公开/授权文献
- US20080241753A1 Negative Resist Composition 公开/授权日：2008-10-02
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IPC分类:
