发明授权
- 专利标题： Method for removing hydrazine compounds
- 专利标题（中）： 肼化合物的除去方法
-
申请号： US11975417申请日： 2007-10-19
-
公开(公告)号： US07758757B2公开(公告)日： 2010-07-20
- 发明人: Kiu-Seung Lee
- 申请人： Kiu-Seung Lee
- 申请人地址： US DE Wilmington
- 专利权人： E. I. du Pont de Nemours and Company
- 当前专利权人： E. I. du Pont de Nemours and Company
- 当前专利权人地址： US DE Wilmington
- 主分类号： C02F1/28
- IPC分类号： C02F1/28
摘要：
Disclosed are methods for removing hydrazine compounds from solutions. Solutions containing hydrazine compounds are contacted with crosslinked polyvinylpyrrolidone.
公开/授权文献
- US20090101589A1 Method for removing hydrazine compounds 公开/授权日：2009-04-23
信息查询
