发明授权
- 专利标题： High-surface precipitation silica acids
- 专利标题（中）： 高表面沉淀二氧化硅酸
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申请号： US10522672申请日： 2003-07-25
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公开(公告)号： US07790131B2公开(公告)日： 2010-09-07
- 发明人: Oleg Stenzel , Stefan Uhrlandt , Hans-Detlef Luginsland , André Wehmeier
- 申请人： Oleg Stenzel , Stefan Uhrlandt , Hans-Detlef Luginsland , André Wehmeier
- 申请人地址： DE Essen
- 专利权人： Evonik Degussa GmbH
- 当前专利权人： Evonik Degussa GmbH
- 当前专利权人地址： DE Essen
- 代理机构： Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, L.L.P.
- 优先权： DE10235559 20020803; DE10330118 20030704
- 国际申请： PCT/EP03/08235 WO 20030725
- 国际公布： WO2004/014797 WO 20040219
- 主分类号： C01B33/12
- IPC分类号： C01B33/12 ; B60C1/00 ; C08K3/34
摘要：
The present invention relates to a highly dispersible silica which has a high surface area, a process to manufacture the aforesaid silica and its use as a tire filler for utility vehicles, motor cycles and high speed vehicles.
公开/授权文献
- US20060099129A1 High-surface precipitation silicic acids 公开/授权日：2006-05-11
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