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US08004756B2 Chromatically corrected catadioptric objective and projection exposure apparatus including the same 有权
色度校正反射折射物镜和投影曝光设备包括它们

  • 专利标题： Chromatically corrected catadioptric objective and projection exposure apparatus including the same
  • 专利标题（中）： 色度校正反射折射物镜和投影曝光设备包括它们
  • 申请号： US12834485
    申请日： 2010-07-12
  • 公开(公告)号： US08004756B2
    公开(公告)日： 2011-08-23
  • 发明人: Alexander Epple
  • 申请人： Alexander Epple
  • 申请人地址： DE Oberkochen
  • 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
  • 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
  • 当前专利权人地址： DE Oberkochen
  • 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
  • 主分类号： G02B17/08
  • IPC分类号： G02B17/08
Chromatically corrected catadioptric objective and projection exposure apparatus including the same
摘要：
A catadioptric objective includes a plurality of optical elements arranged along an optical axis to image a pattern from an object field in an object surface of the objective to an image field in an image surface region of the objective at an image-side numerical aperture NA with electromagnetic radiation from a wavelength band around a central wavelength λ
摘要（中）：

反射折射物镜包括沿着光轴布置的多个光学元件，用于将物镜的物体表面中的物场的图案成像到在像侧数值孔径NA处的物镜的图像表面区域中的图像场， 来自中心波长λ<300nm附近的波长带的电磁辐射。 光学元件包括凹面镜和多个透镜。 对于波长带的每个波长λ，投影物镜在相应的Petzval表面中形成图案的图像，Petzval表面对于不同的波长彼此偏离。 多个透镜包括由具有基本不同的阿贝数的不同材料制成的透镜。 在与图像表面区域中的光轴平行测量的图像场（最大图像高度y'）的边缘场点处的平面参考表面处的给定波长处的Petzval表面的纵向离开p随波长 λ根据：dp /dλ<（15λ/ NA2）/ nm。

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