发明授权
- 专利标题： Template having alignment marks formed of contrast material
- 专利标题（中）： 具有由对比材料形成的对准标记的模板
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申请号： US12464487申请日： 2009-05-12
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公开(公告)号： US08012395B2公开(公告)日： 2011-09-06
- 发明人: Kosta S. Selinidis , Byung-Jin Choi , Gerard M. Schmid , Ecron D. Thompson , Ian Matthew McMackin
- 申请人： Kosta S. Selinidis , Byung-Jin Choi , Gerard M. Schmid , Ecron D. Thompson , Ian Matthew McMackin
- 申请人地址： US TX Austin
- 专利权人： Molecular Imprints, Inc.
- 当前专利权人： Molecular Imprints, Inc.
- 当前专利权人地址： US TX Austin
- 代理商 Cameron A. King
- 主分类号： B28B11/08
- IPC分类号： B28B11/08
摘要：
Imprint lithography substrates may include alignment marks formed of high contrast material. Exemplary methods for forming alignment marks having high contrast material are described.
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