发明授权
- 专利标题： Curable composition for nanoimprint, and patterning method
- 专利标题（中）： 纳米压印的可固化组合物和图案化方法
-
申请号： US12472023申请日： 2009-05-26
-
公开(公告)号： US08025833B2公开(公告)日： 2011-09-27
- 发明人: Kunihiko Kodama , Akinori Fujita , Tadashi Oomatsu , Akiyoshi Goto
- 申请人： Kunihiko Kodama , Akinori Fujita , Tadashi Oomatsu , Akiyoshi Goto
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JP2008-030854 20080212; JP2008-207844 20080812
- 主分类号： B29C35/08
- IPC分类号： B29C35/08 ; G03F7/00
摘要：
A curable composition for nanoimprints which comprises a polycyclic aromatic structure-having polymerizable monomer and a photopolymerization initiator is excellent in mold releasability, etching resistance and solvent resistance and capable of forming patterns.
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
