发明授权
- 专利标题： Method for preparing conductive pattern and conductive pattern prepared by the method
- 专利标题（中）： 通过该方法制备导电图案和导电图案的方法
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申请号： US12086613申请日： 2006-12-15
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公开(公告)号： US08025953B2公开(公告)日： 2011-09-27
- 发明人: Dong Wook Lee , In Seok Hwang , Seung Wook Kim , Hyun Seok Choi
- 申请人： Dong Wook Lee , In Seok Hwang , Seung Wook Kim , Hyun Seok Choi
- 申请人地址： KR Seoul
- 专利权人： LG Chem, Ltd.
- 当前专利权人： LG Chem, Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Seoul
- 代理机构： McKenna, Long & Aldridge LLP
- 优先权： KR10-2005-0124866 20051216
- 国际申请： PCT/KR2006/005504 WO 20061215
- 国际公布： WO2007/069870 WO 20070621
- 主分类号： B32B9/00
- IPC分类号： B32B9/00 ; H05K3/00
摘要：
The present invention provides a method for preparing a conductive pattern, comprising a pattern forming step of forming a conductive pattern on a substrate; and a blackening processing step of blackening the surface of the conductive pattern by immersing the conductive pattern in an aqueous solution containing reducing metal ions to oxidize the surface of the conductive pattern, and a conductive pattern prepared therefrom.
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