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US08076056B2 Method of making sub-resolution pillar structures using undercutting technique 有权
使用底切技术制作分辨率柱状结构的方法

Method of making sub-resolution pillar structures using undercutting technique
摘要：
A method of making a device includes forming an underlying mask layer over an underlying layer, forming a first mask layer over the underlying mask layer, patterning the first mask layer to form first mask features, undercutting the underlying mask layer to form underlying mask features using the first mask features as a mask, removing the first mask features, and patterning the underlying layer using at least the underlying mask features as a mask.
摘要（中）：

一种制造器件的方法包括在下面的层上形成下面的掩模层，在下面的掩模层之上形成第一掩模层，对第一掩模层进行图案化以形成第一掩模特征，利用下面的掩模层来切割下面的掩模特征，使用 第一掩模作为掩模，去除第一掩模特征，并使用至少底层掩模特征作为掩模来图案化底层。

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