发明授权
- 专利标题： System for control of gas injectors
- 专利标题（中）： 气体喷射器控制系统
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申请号： US11373408申请日： 2006-03-09
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公开(公告)号： US08088223B2公开(公告)日： 2012-01-03
- 发明人: Michael A. Todd , Keith D. Weeks , Paul T. Jacobson
- 申请人： Michael A. Todd , Keith D. Weeks , Paul T. Jacobson
- 申请人地址： US AZ Phoenix
- 专利权人： ASM America, Inc.
- 当前专利权人： ASM America, Inc.
- 当前专利权人地址： US AZ Phoenix
- 代理机构： Knobbe, Martens, Olson & Bear, LLP
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C23C16/52 ; C23C16/06 ; C23C16/22
摘要：
A substrate processing system has computer controlled injectors. The computer is configured to adjust a plurality of injectors, such as during deposition of a graded layer, between depositions of two different layers, or between deposition and chamber clean steps.
公开/授权文献
- US20060216417A1 System for control of gas injectors 公开/授权日：2006-09-28
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IPC分类:
