发明授权
- 专利标题： Dual beam system
- 专利标题（中）： 双光束系统
-
申请号： US12788836申请日： 2010-05-27
-
公开(公告)号： US08183547B2公开(公告)日： 2012-05-22
- 发明人: Tom Miller
- 申请人： Tom Miller
- 申请人地址： US OR Hillsboro
- 专利权人： FEI Company
- 当前专利权人： FEI Company
- 当前专利权人地址： US OR Hillsboro
- 代理机构： Scheinberg & Associates
- 代理商 Michael O. Scheinberg
- 主分类号： H01J37/14
- IPC分类号： H01J37/14 ; H01J37/28
摘要：
A dual beam system provides for operation of a focused ion beam in the presence of a magnetic field from an ultra-high resolution electron lens. The ion beam is deflected to compensate for the presence of the magnetic field.
公开/授权文献
- US20100301211A1 DUAL BEAM SYSTEM 公开/授权日：2010-12-02
信息查询
