发明授权
- 专利标题： Exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method
- 专利标题（中）： 曝光方法，曝光装置和装置制造方法
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申请号： US12155436申请日： 2008-06-04
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公开(公告)号： US08243254B2公开(公告)日： 2012-08-14
- 发明人: Yosuke Shirata
- 申请人： Yosuke Shirata
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Nikon Corporation
- 当前专利权人： Nikon Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Oliff & Berridge, PLC
- 优先权： JP2005-351657 20051206
- 主分类号： G03B27/32
- IPC分类号： G03B27/32 ; G03B27/42 ; G03B27/52 ; G03B27/58
摘要：
An exposure apparatus comprises: a first detection apparatus, which detects the temperature of a liquid after the liquid contacts a prescribed object; and a processing apparatus that detects the relationship between the temperature of the liquid and the temperature of the object based on the detection result of the first detection apparatus.
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