发明授权
US08293125B2 Method and device for manufacturing structure having pattern, and method for manufacturing mold
有权
具有图案的制造结构的方法和装置，以及用于制造模具的方法
- 专利标题： Method and device for manufacturing structure having pattern, and method for manufacturing mold
- 专利标题（中）： 具有图案的制造结构的方法和装置，以及用于制造模具的方法
-
申请号： US11995170申请日： 2006-09-05
-
公开(公告)号： US08293125B2公开(公告)日： 2012-10-23
- 发明人: Aya Imada , Toru Den , Takashi Nakamura
- 申请人： Aya Imada , Toru Den , Takashi Nakamura
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Fitzpatrick, Cella, Harper & Scinto
- 优先权： JP2005-257408 20050906; JP2006-070832 20060315; JP2006-230610 20060828
- 国际申请： PCT/JP2006/317938 WO 20060905
- 国际公布： WO2007/029845 WO 20070315
- 主分类号： C03C15/00
- IPC分类号： C03C15/00
摘要：
A structure having a pattern is manufactured. An elastically deformable process target is elastically deformed in an inplane direction from a first state. A first pattern is formed on the process target deformed. The elastically deformed process target is made close to or returned to the first state, thereby to form a second pattern having a size and a shape at least one of which differs from those of the first pattern.
公开/授权文献
信息查询
