发明授权
- 专利标题： Exposure apparatus, light source apparatus and method of manufacturing device
- 专利标题（中）： 曝光装置，光源装置及其制造方法
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申请号： US12642726申请日： 2009-12-18
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公开(公告)号： US08319943B2公开(公告)日： 2012-11-27
- 发明人: Hiroshi Tanaka
- 申请人： Hiroshi Tanaka
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Canon U.S.A., Inc. IP Division
- 优先权： JP2008-335220 20081226
- 主分类号： G03B27/42
- IPC分类号： G03B27/42
摘要：
An apparatus exposes a substrate via a pattern of a reticle using pulsed light generated by a light source, and includes a controller configured to control the light source so that the oscillation frequency of the light source changes periodically while the apparatus exposes the substrate. The oscillation frequency is the number of times of emission of the light source per unit time.
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