发明授权
- 专利标题： Method and apparatus for imaging of features on a substrate
- 专利标题（中）： 用于在基板上成像的方法和装置
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申请号： US13002912申请日： 2009-07-08
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公开(公告)号： US08692876B2公开(公告)日： 2014-04-08
- 发明人: Auguste Genovesio , Neil Emans
- 申请人： Auguste Genovesio , Neil Emans
- 申请人地址： KR Sungnam Gyeonggi
- 专利权人： Institut Pasteur Korea
- 当前专利权人： Institut Pasteur Korea
- 当前专利权人地址： KR Sungnam Gyeonggi
- 代理机构： Saliwanchik, Lloyd & Eisenschenk
- 国际申请： PCT/EP2009/004951 WO 20090708
- 国际公布： WO2010/006727 WO 20100121
- 主分类号： H04N7/18
- IPC分类号： H04N7/18
摘要：
A method for imaging features on a substrate, comprising scanning the substrate and producing an image thereof, overlaying a grid model on the image, fitting the grid model to the locations of at least some of the features on the image, and extracting images of the features.
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