发明授权
US08889919B2 Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern
有权
环状化合物，环状化合物的制造方法，辐射敏感性组合物以及形成抗蚀剂图案的方法
- 专利标题： Cyclic compound, process for production of the cyclic compound, radiation-sensitive composition, and method for formation of resist pattern
- 专利标题（中）： 环状化合物，环状化合物的制造方法，辐射敏感性组合物以及形成抗蚀剂图案的方法
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申请号： US13392263申请日： 2010-08-26
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公开(公告)号： US08889919B2公开(公告)日： 2014-11-18
- 发明人: Masatoshi Echigo , Hiromi Hayashi
- 申请人： Masatoshi Echigo , Hiromi Hayashi
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- 当前专利权人： Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Greenblum & Bernstein, P.L.C.
- 优先权： JP2009-200631 20090831
- 国际申请： PCT/JP2010/064521 WO 20100826
- 国际公布： WO2011/024916 WO 20110303
- 主分类号： C07C43/23
- IPC分类号： C07C43/23 ; C07C41/30 ; G03F7/004
摘要：
A cyclic compound represented by formula (1): wherein L, R1, R′, and m are as defined in the specification. The cyclic compound of formula (1) is highly soluble to a safety solvent, highly sensitive, and capable of forming resist patterns with good profile. Therefore, the cyclic compound is useful as a component of a radiation-sensitive composition.
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