发明授权
- 专利标题： Optical element and method
- 专利标题（中）： 光学元件及方法
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申请号： US12402015申请日： 2009-03-11
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公开(公告)号： US08891172B2公开(公告)日： 2014-11-18
- 发明人: Eric Eva , Payam Tayebati , Michael Thier , Markus Hauf , Ulrich Schoenhoff , Ole Fluegge , Arif Kazi , Alexander Sauerhoefer , Gerhard Focht , Jochen Weber , Toralf Gruner
- 申请人： Eric Eva , Payam Tayebati , Michael Thier , Markus Hauf , Ulrich Schoenhoff , Ole Fluegge , Arif Kazi , Alexander Sauerhoefer , Gerhard Focht , Jochen Weber , Toralf Gruner
- 申请人地址： DE Oberkochen
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人地址： DE Oberkochen
- 代理机构： Fish & Richardson P.C.
- 优先权： DE102006045075 20060921
- 主分类号： G02B9/00
- IPC分类号： G02B9/00 ; G03F7/20 ; G02B27/00 ; G02B7/02
摘要：
The disclosure relates to an optical element configure to at least partial spatially resolve correction of a wavefront aberration of an optical system (e.g., a projection exposure apparatus for microlithography) to which optical radiation can be applied, as well as related systems and methods.
公开/授权文献
- US20090257032A1 OPTICAL ELEMENT AND METHOD 公开/授权日：2009-10-15
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