发明授权
US09188869B2 Method of producing structure containing phase-separation structure, method of forming pattern, and method of forming fine pattern
有权
制造含有相分离结构的结构的方法，形成图案的方法和形成精细图案的方法
- 专利标题： Method of producing structure containing phase-separation structure, method of forming pattern, and method of forming fine pattern
- 专利标题（中）： 制造含有相分离结构的结构的方法，形成图案的方法和形成精细图案的方法
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申请号： US14445556申请日： 2014-07-29
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公开(公告)号： US09188869B2公开(公告)日： 2015-11-17
- 发明人: Takehiro Seshimo , Takahiro Dazai , Takaya Maehashi , Ken Miyagi , Yoshiyuki Utsumi
- 申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- 申请人地址： JP Kawasaki-shi
- 专利权人： Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- 当前专利权人： Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Kawasaki-shi
- 代理机构： Knobbe Martens Olson & Bear LLP
- 优先权： JP2013-159897 20130731
- 主分类号： G03F7/40
- IPC分类号： G03F7/40 ; G03F7/20 ; G03F7/42 ; C08L3/00 ; C08L33/12
摘要：
A method of forming a structure containing a phase-separated structure, the method including: a step of forming a layer containing a block copolymer having a plurality of blocks bonded and a purity of 98% or more, and a step of phase-separating the layer containing the block copolymer.
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