发明授权
- 专利标题： Process for manufacturing silicon-based nanoparticles from metallurgical-grade silicon or refined metallurgical-grade silicon
- 专利标题（中）： 从冶金级硅或精炼冶金级硅制造硅基纳米颗粒的方法
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申请号： US14004018申请日： 2012-03-09
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公开(公告)号： US09352969B2公开(公告)日： 2016-05-31
- 发明人: Volodymyr Lysenko , Jed Kraiem , Mahdi Medjaoui
- 申请人： Volodymyr Lysenko , Jed Kraiem , Mahdi Medjaoui
- 申请人地址： FR Villeurbanne FR Paris FR Lyons
- 专利权人： INSTITUT NATIONAL des SCIENCES APPLIQUEES DE LYON,CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE,APOLLON SOLAR
- 当前专利权人： INSTITUT NATIONAL des SCIENCES APPLIQUEES DE LYON,CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE,APOLLON SOLAR
- 当前专利权人地址： FR Villeurbanne FR Paris FR Lyons
- 代理机构： Oliff PLC
- 优先权： FR1151926 20110309
- 国际申请： PCT/EP2012/054124 WO 20120309
- 国际公布： WO2012/120117 WO 20120913
- 主分类号： C01B33/021
- IPC分类号： C01B33/021 ; C01B3/10 ; C25B3/12 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00 ; C25F3/12 ; B82Y99/00
摘要：
A process for manufacturing silicon-based nanoparticles by electrochemical etching of a substrate, wherein the substrate is a metallurgical-grade or upgraded metallurgical-grade silicon, the substrate including an impurity content greater than 0.01%.
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