发明授权
- 专利标题： Target, method for producing the same, memory, and method for producing the same
- 专利标题（中）： 目的，制造方法，记忆及其制造方法
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申请号： US14174917申请日： 2014-02-07
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公开(公告)号： US09419214B2公开(公告)日： 2016-08-16
- 发明人: Kazuhiro Ohba , Yuichi Kamori , Hitoshi Kimura
- 申请人： Sony Corporation
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： SONY CORPORATION
- 当前专利权人： SONY CORPORATION
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Dentons US LLP
- 优先权： JP2009-175709 20090728
- 主分类号： B22F9/04
- IPC分类号： B22F9/04 ; H01L45/00 ; C22C1/05 ; C23C14/34 ; C23C14/14
摘要：
A target including: at least one refractory metal element selected from the group consisting of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, and lanthanoids; at least one element selected from the group consisting of Al, Ge, Zn, Co, Cu, Ni, Fe, Si, Mg, and Ga; and at least one chalcogen element selected from the group consisting of S, Se, and Te. And a method for producing the target.
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