- 专利标题： Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device
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申请号： US15158848申请日： 2016-05-19
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公开(公告)号： US09841679B2公开(公告)日： 2017-12-12
- 发明人: Masafumi Kojima , Akiyoshi Goto , Akinori Shibuya , Keita Kato , Kei Yamamoto
- 申请人： FUJIFILM Corporation
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JP2013-257496 20131212
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/38 ; G03F7/039 ; G03F7/11 ; G03F7/20 ; G03F7/32 ; G03F7/038
摘要：
An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (P) having a partial structure represented by General Formula (X), and a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation.
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