外观设计
- 专利标题： X-ray production apparatus for inspection tour
- 专利标题（中）： X光生产仪器巡视
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申请号： US29320020申请日： 2008-06-18
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公开(公告)号： USD617906S1公开(公告)日： 2010-06-15
- 设计人: Tadahiko Nakahara , Hiroshi Miyata , Toshiaki Nakamura , Hiroshi Muraoka
- 申请人： Tadahiko Nakahara , Hiroshi Miyata , Toshiaki Nakamura , Hiroshi Muraoka
- 申请人地址： JP Kyoto
- 专利权人： Shimadzu Corporation
- 当前专利权人： Shimadzu Corporation
- 当前专利权人地址： JP Kyoto
- 代理机构： J.C. Patents
- 优先权： JP2008-006083 20080312; JP2008-006084 20080312
- LOC分类号： 24-01
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