Invention Application
- Patent Title: 洗浄すすぎ方法
- Patent Title (English): Cleaning/rinsing method
- Patent Title (中): 清洁/冲洗方法
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Application No.: PCT/JP2004/008981Application Date: 2004-06-25
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Publication No.: WO2005001015A1Publication Date: 2005-01-06
- Inventor: 花田 毅 , 岡本 秀一 , 津崎 真彰 , 重松 麻紀
- Applicant: 旭硝子株式会社 , 花田 毅 , 岡本 秀一 , 津崎 真彰 , 重松 麻紀
- Applicant Address: 〒1008405 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 Tokyo JP
- Assignee: 旭硝子株式会社,花田 毅,岡本 秀一,津崎 真彰,重松 麻紀
- Current Assignee: 旭硝子株式会社,花田 毅,岡本 秀一,津崎 真彰,重松 麻紀
- Current Assignee Address: 〒1008405 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 Tokyo JP
- Agency: 泉名 謙治
- Priority: JP2003-184722 20030627
- Main IPC: C11D7/28
- IPC: C11D7/28
Abstract:
洗浄性、すすぎ性に優れた、物品の洗浄すすぎ方法を提供する。 汚染物質が付着した物品を、芳香族炭化水素またはグリコールエーテル類を含有する炭化水素系溶剤に接触させる洗浄工程と、含フッ素エーテルに接触させるすすぎ工程を有する物品の洗浄すすぎ方法であって、含フッ素エーテルが式1で表される化合物であることを特徴とする物品の洗浄すすぎ方法。 R 1 −O−R 2 ・・・式1 ただし、R 1 、R 2 は、各々独立に含フッ素アルキル基を示す。R 1 およびR 2 に含まれるフッ素原子の数はそれぞれ1以上であり、かつR 1 およびR 2 に含まれる炭素原子の数の合計は4~8である。
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