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WO2005091077A3 PROJECTION LENS OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
投影镜头的微光刻投射曝光设备

PROJECTION LENS OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
Abstract:
A projection lens of a microlithographic projection exposure system comprises a number of optical elements (15, 16, 18, 20, L1 to L4). A selected optical element (20), e.g. a mirror, can be deformed by exerting a mechanical force generated by an actuator (30, 130, 330, 430, 530). With the aid of a manipulator (26a, 26b, 26c, 126a, 126b, 226a, 226b, 326a, 326b, 326c, 426a, 426b, 426c, 526b) the spatial position of one of the optical elements and, in particular, of the deformed optical element (20) can be altered depending on the force exerted y the actuator (30; 130, 330, 430, 530). This enables tipping movements or other changes in position, which occur due to the interaction of a mounting (22a, 22b, 22c, 122a, 122b, 222a, 222b) and the forces generated by the actuator (30, 130, 330, 430, 530), to be canceled once again at least in part.
Abstract(Chinese):

微光刻投射曝光设备的投射物镜包括多个光学元件（15，16，18，20，L1至L4）的。 选定的光学元件（20），例如 镜，通过由致动器施加机械力（30，130，330，430，530）被产生，变形。 与操纵器（26A，26B，26C，126A，126B，226A，226B​​，326A，326B，326C，426A，426B，426C，526B），所述光学元件的空间位置，特别是变形的光学元件的帮助下（20） 来改变施加的力;根据所述由致动器（130，330，430，530 30）。 以这种方式，倾斜或者在位置等变化，由于轴承的相互作用的（22A，22B，22C，122A，122B，222A，222B），并通过产生的形成在致动器力（30，130，330，430，530）， 至少部分地松开。

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