Invention Application
- Patent Title: パターン検査装置、パターン検査方法及びパターン検査プログラム
- Patent Title (English): Pattern testing apparatus, pattern testing method, and pattern testing program
- Patent Title (中): 模式测试设备,模式测试方法和模式测试程序
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Application No.: PCT/JP2005/020282Application Date: 2005-11-04
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Publication No.: WO2006049243A1Publication Date: 2006-05-11
- Inventor: 宮野 博義
- Applicant: 日本電気株式会社 , 宮野 博義
- Applicant Address: 〒1080014 東京都港区芝五丁目7番1号 Tokyo JP
- Assignee: 日本電気株式会社,宮野 博義
- Current Assignee: 日本電気株式会社,宮野 博義
- Current Assignee Address: 〒1080014 東京都港区芝五丁目7番1号 Tokyo JP
- Agency: 山下 穣平
- Priority: JP2004-322200 20041105
- Main IPC: G01N21/956
- IPC: G01N21/956 ; G01B11/30 ; G03F1/08 ; G06T1/00 ; H01L21/027
Abstract:
採取画像と設計データからぼけの経時変化を反映させた参照画像を作成することで推定高精度な欠陥検査を実現することを目的とする。観測画像と設計情報から点広がり関数を推定する点広がり関数推定部23と、前記設計情報に対して前記点広がり関数を畳み込むことによって畳み込み画像を生成する畳み込み画像生成部31と、前記畳み込み画像生成部で得られた前記畳み込み画像から参照画像を生成する参照画像生成部32と、観測画像と参照画像とを比較することによりパターンの欠陥を検出する画像比較部33とを備える。
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