Invention Application
- Patent Title: パターン膜の製造方法及び感光性樹脂組成物
- Patent Title (English): Process for producing patterned film and photosensitive resin composition
- Patent Title (中): 生产图案薄膜和感光树脂组合物的方法
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Application No.: PCT/JP2006/320819Application Date: 2006-10-19
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Publication No.: WO2007144967A1Publication Date: 2007-12-21
- Inventor: 福井 弘司 , 青木 健一 , 市村 國宏 , 末崎 穣 , 江南 俊夫 , 石澤 英亮 , 雲梯 隆夫 , 小林 洋
- Applicant: 積水化学工業株式会社 , 福井 弘司 , 青木 健一 , 市村 國宏 , 末崎 穣 , 江南 俊夫 , 石澤 英亮 , 雲梯 隆夫 , 小林 洋
- Applicant Address: 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 Osaka JP
- Assignee: 積水化学工業株式会社,福井 弘司,青木 健一,市村 國宏,末崎 穣,江南 俊夫,石澤 英亮,雲梯 隆夫,小林 洋
- Current Assignee: 積水化学工業株式会社,福井 弘司,青木 健一,市村 國宏,末崎 穣,江南 俊夫,石澤 英亮,雲梯 隆夫,小林 洋
- Current Assignee Address: 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 Osaka JP
- Agency: 宮▲崎▼ 主税 et al.
- Priority: JP2006-163442 20060613; JP2006-197143 20060719
- Main IPC: G03F7/38
- IPC: G03F7/38 ; G03F7/004 ; G03F7/038
Abstract:
基板上に感光性樹脂組成物層を形成し、マスクを介して光で選択的に感光性樹脂組成物層を露光した後に、例えば現像により未露光部または露光部の感光性樹脂組成物層を除去せずとも、表面に凹凸が形成された膜パターンを得ることができる膜パターンの製造方法、及び該膜パターンの製造方法に用いられる感光性樹脂組成物を提供する。 光の照射により酸又は塩基を発生し、硬化する感光性樹脂組成物を用意する工程と、基板2上に感光性樹脂組成物を塗布し、所定の厚みの感光性樹脂組成物層1を形成する工程と、マスク3を介して光で感光性樹脂組成物層1を選択的に露光し、未露光部の感光性樹脂組成物の少なくとも一部を露光部に移動させ、さらに硬化させて、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜1Aを得る工程とを備える、パターン膜の製造方法。
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