Invention Application
- Patent Title: 半導体ナノ粒子及びその製造方法
- Patent Title (English): Semiconductor nanoparticle and method for manufacturing same
- Patent Title (中): 半导体纳米材料及其制造方法
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Application No.: PCT/JP2007/061179Application Date: 2007-06-01
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Publication No.: WO2007145088A1Publication Date: 2007-12-21
- Inventor: 関口 満 , 塚田 和也
- Applicant: コニカミノルタエムジー株式会社 , 関口 満 , 塚田 和也
- Applicant Address: 〒1918511 東京都日野市さくら町1番地 Tokyo JP
- Assignee: コニカミノルタエムジー株式会社,関口 満,塚田 和也
- Current Assignee: コニカミノルタエムジー株式会社,関口 満,塚田 和也
- Current Assignee Address: 〒1918511 東京都日野市さくら町1番地 Tokyo JP
- Priority: JP2006-164419 20060614
- Main IPC: C09K11/08
- IPC: C09K11/08 ; B82B3/00 ; C01B33/18
Abstract:
本発明は、発光波長は変更せずに、従来のコア/シェル型のナノサイズの半導体粒子よりも大きく、取り扱いが容易で、発光領域が大きい分、発光量も大きい半導体ナノ粒子及びその製造方法を提供する。この半導体ナノ粒子は、中心部に空洞部を有し、コア層とシェル層を有し、該コア層の厚さが2~10nmの半導体ナノ粒子において、該コア層と該シェル層がそれぞれ異なる半導体で形成されており、該シェル層を形成する半導体のバンドギャップが、該コア層を形成する結晶のバンドギャップより大きいことを特徴とする。
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