Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur kontinuierlichen hydrothermalen Behandlung von Substanzen. Die Vorrichtung umfasst einen Produktaustragungsabschnitt mit einer Kühlvorrichtung, die einer Produktaustrittsöffnung nachgeschaltet ist und einen das Beschickungsgut aufnehmenden Reaktionsabschnitt mit wenigstens einem Rührelement und wenigstens einem Strömungswiderstandselement. Die Vorrichtung ist für verschiedene Anwendungen, wie beispielsweise hydrothermale Kristallisationsreaktionen geeignet. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung ein entsprechendes Verfahren zur kontinuierlichen hydrothermalen Behandlung. Darüber hinaus betrifft die vorliegende Erfindung ein spezifisches Verfahren zur Herstellung von Nanopartikeln bzw. entsprechenden Agglomeraten.