Invention Application
WO2008044741A1 電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物 审中-公开
使用电子束,X射线或EUV光的光刻方法中的耐蚀组合物

電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物
Abstract:
 電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物を提供する。  側鎖に含フッ素芳香族環構造を有する繰り返し単位(F)を含む酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する含フッ素重合体(F)と、酸を発生する化合物とを含む、電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物。たとえば、繰り返し単位(F)は、下記繰り返し単位(F V )である(ただし、R F は水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはハロメチル基(3個のR F は同一であってもよく、異なっていてもよい。)であり、Y F は炭素数1~20の酸分解性基または水素原子であり、p、qおよびrはそれぞれ独立に0~5の整数であり、かつp、qおよびrの和は1~5の整数である。)。
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