Invention Application
- Patent Title: 液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びフォトレジストパターン形成方法
- Patent Title (English): Radiation-sensitive resin composition for immersion exposure and method of forming photoresist pattern
- Patent Title (中): 用于浸没曝光的辐射敏感性树脂组合物和形成光电子图案的方法
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Application No.: PCT/JP2007/075016Application Date: 2007-12-26
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Publication No.: WO2008087840A1Publication Date: 2008-07-24
- Inventor: 西村 幸生 , 原田 健太郎 , 若松 剛史 , 中島 浩光 , 中川 大樹 , 松村 信司
- Applicant: JSR株式会社 , 西村 幸生 , 原田 健太郎 , 若松 剛史 , 中島 浩光 , 中川 大樹 , 松村 信司
- Applicant Address: 〒1048410 東京都中央区築地五丁目6番10号 Tokyo JP
- Assignee: JSR株式会社,西村 幸生,原田 健太郎,若松 剛史,中島 浩光,中川 大樹,松村 信司
- Current Assignee: JSR株式会社,西村 幸生,原田 健太郎,若松 剛史,中島 浩光,中川 大樹,松村 信司
- Current Assignee Address: 〒1048410 東京都中央区築地五丁目6番10号 Tokyo JP
- Agency: 小島 清路
- Priority: JP2007-010764 20070119
- Main IPC: G03F7/039
- IPC: G03F7/039 ; H01L21/027
Abstract:
本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、液浸露光時に接触した水等の液浸媒体への溶出物の量が少なく、且つバブル欠陥の発生を抑制することができる液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、フッ素化アルキル基を含有し、フッ素含量が3atom%以上であり、且つ酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体(A)と、酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素含量が3atom%未満である樹脂(B)と、感放射線性酸発生剤(C)と、を含有する樹脂組成物であって、この樹脂組成物を基板上に塗布して形成されるフォトレジスト膜の水に対する前進接触角が95度以下である。
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