Invention Application
WO2008087840A1 液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びフォトレジストパターン形成方法 审中-公开
用于浸没曝光的辐射敏感性树脂组合物和形成光电子图案的方法

液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びフォトレジストパターン形成方法
Abstract:
 本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、液浸露光時に接触した水等の液浸媒体への溶出物の量が少なく、且つバブル欠陥の発生を抑制することができる液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、フッ素化アルキル基を含有し、フッ素含量が3atom%以上であり、且つ酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体(A)と、酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素含量が3atom%未満である樹脂(B)と、感放射線性酸発生剤(C)と、を含有する樹脂組成物であって、この樹脂組成物を基板上に塗布して形成されるフォトレジスト膜の水に対する前進接触角が95度以下である。
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