发明申请
- 专利标题： 基体の反射率低減剤及びそれを用いた低反射性基体の製造方法
- 专利标题（英）： Reflectivity-reducing agent for substrate, and method for production of low-reflective substrate using the same
- 专利标题（中）： 用于衬底的反射率降低剂及使用其的低反射基板的制造方法
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申请号： PCT/JP2008/062318申请日： 2008-07-08
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公开(公告)号： WO2009008419A1公开(公告)日： 2009-01-15
- 发明人: 緒方 四郎 , 松井 義光
- 申请人： サスティナブル・テクノロジー株式会社 , 緒方 四郎 , 松井 義光
- 申请人地址： 〒1510053 東京都渋谷区代々木5-38-6 オリーブビル1F Tokyo JP
- 专利权人： サスティナブル・テクノロジー株式会社,緒方 四郎,松井 義光
- 当前专利权人： サスティナブル・テクノロジー株式会社,緒方 四郎,松井 義光
- 当前专利权人地址： 〒1510053 東京都渋谷区代々木５－３８－６ オリーブビル１Ｆ Tokyo JP
- 代理机构： 志賀 正武 et al.
- 优先权： JP2007-179677 20070709; JP2008-056271 20080306
- 主分类号： C09D1/00
- IPC分类号： C09D1/00 ; B32B9/00 ; C09D5/00 ; C09D7/12 ; C09D105/00 ; H01L31/04 ; H01M14/00
摘要：
本発明は、基体の材質及び形状に係らず適用可能な簡易な方法により、基体の反射率を低減させると共に透過率が増大して光学特性が向上した基体を提供することを目的とする。前記目的達成のために、本発明では、炭素及び／又は熱分解性有機化合物、並びに、酸化チタン及び／又は無機ケイ素化合物を含む反射率低減剤を光透過性基体の表面に塗布し、これを加熱して当該基体を光高透過性とする。
IPC分类:
