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WO2009011364A1 電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物 审中-公开
使用电子束,X射线或EUV光的光刻工艺使用的耐蚀组合物。

電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物
Abstract:
 電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物を提供する。  主鎖に結合したフッ素原子または含フッ素アルキル基を有し、側鎖に芳香族環構造を有する繰り返し単位(F)を含む酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する含フッ素重合体(PF)と、酸発生剤とを含む、電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物。たとえば、前記繰り返し単位(F)は、下記繰り返し単位(F V 1)、(F V 2)、(F V 3)および(F V 4)からなる群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位(F V n)である(X F1 は-Fまたは-CF 3 を、r1およびr2はそれぞれ独立に0~2の整数(r1とr2の和は1~3の整数である。)を、Y F はアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選ばれる、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~20の基、W F はアルキル基、アルコキシアルキル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選ばれる、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~20の基、を示す。)。
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