Invention Application
- Patent Title: 電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物
- Patent Title (English): Resist composition used for lithography process using electron beam, x ray or euv light.
- Patent Title (中): 使用电子束,X射线或EUV光的光刻工艺使用的耐蚀组合物。
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Application No.: PCT/JP2008/062847Application Date: 2008-07-16
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Publication No.: WO2009011364A1Publication Date: 2009-01-22
- Inventor: 佐々木 崇 , 澤口 正紀 , 横小路 修
- Applicant: 旭硝子株式会社 , 佐々木 崇 , 澤口 正紀 , 横小路 修
- Applicant Address: 〒1008405 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 Tokyo JP
- Assignee: 旭硝子株式会社,佐々木 崇,澤口 正紀,横小路 修
- Current Assignee: 旭硝子株式会社,佐々木 崇,澤口 正紀,横小路 修
- Current Assignee Address: 〒1008405 東京都千代田区有楽町一丁目12番1号 Tokyo JP
- Agency: 泉名 謙治 et al.
- Priority: JP2007-187462 20070718
- Main IPC: G03F7/039
- IPC: G03F7/039 ; H01L21/027
Abstract:
電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物を提供する。 主鎖に結合したフッ素原子または含フッ素アルキル基を有し、側鎖に芳香族環構造を有する繰り返し単位(F)を含む酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する含フッ素重合体(PF)と、酸発生剤とを含む、電子線、X線またはEUV光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物。たとえば、前記繰り返し単位(F)は、下記繰り返し単位(F V 1)、(F V 2)、(F V 3)および(F V 4)からなる群から選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位(F V n)である(X F1 は-Fまたは-CF 3 を、r1およびr2はそれぞれ独立に0~2の整数(r1とr2の和は1~3の整数である。)を、Y F はアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選ばれる、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~20の基、W F はアルキル基、アルコキシアルキル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選ばれる、フッ素原子を有していてもよい炭素数1~20の基、を示す。)。
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