Invention Application
- Patent Title: D/A変換器及び電子ビーム露光装置
- Patent Title (English): D/a converter and electron beam lithography system
- Patent Title (中): D / A转换器和电子束光刻系统
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Application No.: PCT/JP2007/072455Application Date: 2007-11-20
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Publication No.: WO2009066371A1Publication Date: 2009-05-28
- Inventor: 矢原 秀文
- Applicant: 株式会社アドバンテスト , 矢原 秀文
- Applicant Address: 〒1790071 東京都練馬区旭町1丁目32番1号 Tokyo JP
- Assignee: 株式会社アドバンテスト,矢原 秀文
- Current Assignee: 株式会社アドバンテスト,矢原 秀文
- Current Assignee Address: 〒1790071 東京都練馬区旭町1丁目32番1号 Tokyo JP
- Agency: 岡本 啓三
- Main IPC: H03M1/68
- IPC: H03M1/68 ; H03M1/10
Abstract:
【課題】高分解能であってデジタル値に対する直線性がよいD/A変換器及びそのD/A変換器を搭載した電子ビーム露光装置を提供すること。 【解決手段】D/A変換器30は、上位ビットのD/A変換を行う第1のD/A変換部と下位ビットのD/A変換を行う第2のD/A変換部で構成され、最下位ビットと同一の重み付けの補助ビットを備えたD/A変換基本部35と、補正用D/A変換部38と、補正用D/A変換部38のD/A変換器に設定するデジタルコードを生成する誤差検出処理部33と、制御部34とを備える。制御部34は、ビット電流源と当該ビット電流源より下位のビット電流源とを比較して、ビット電流源の値が変動したと判定したとき、補正用D/A変換器に設定するデジタルコードを誤差検出処理部33に生成させ、ビット電流源の値を補正する。
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IPC分类: