Invention Application
- Patent Title: マイクロ流体デバイス
- Patent Title (English): Micro fluid device
- Patent Title (中): 微流体装置
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Application No.: PCT/JP2009/054623Application Date: 2009-03-11
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Publication No.: WO2009113567A1Publication Date: 2009-09-17
- Inventor: 福岡 正輝 , 山本 一喜 , 赤木 良教 , 福井 弘司
- Applicant: 積水化学工業株式会社 , 福岡 正輝 , 山本 一喜 , 赤木 良教 , 福井 弘司
- Applicant Address: 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 Osaka JP
- Assignee: 積水化学工業株式会社,福岡 正輝,山本 一喜,赤木 良教,福井 弘司
- Current Assignee: 積水化学工業株式会社,福岡 正輝,山本 一喜,赤木 良教,福井 弘司
- Current Assignee Address: 〒5308565 大阪府大阪市北区西天満2丁目4番4号 Osaka JP
- Agency: 宮▲崎▼ 主税
- Priority: JP2008-061290 20080311; JP2008-076178 20080324; JP2008-157448 20080617; JP2008-187492 20080718; JP2008-223331 20080901; JP2008-231970 20080910
- Main IPC: F04F1/18
- IPC: F04F1/18 ; B01J7/00 ; B01J19/00 ; B81B1/00 ; F04B9/00 ; F04F1/06 ; G01N37/00
Abstract:
マイクロポンプシステムを有するマイクロ流体デバイスにおいて、製造工程の簡素化を図ると共に、さらなる小型化を図る。 マイクロ流体デバイス1は、ガス発生部3を有する。ガス発生部3は、基板10と、ガス発生層20とを有している。基板10は、第1の主面10aと第2の主面10bとを有する。基板10には、少なくとも第1の主面10aに開口するマイクロ流路14が形成されている。ガス発生層20は、基板10の第1の主面10aに、開口14aを覆うように配置されている。ガス発生層20は、外部刺激を受けることによりガスを発生させる。
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