Invention Application
WO2009119500A1 ガス供給装置、処理装置、処理方法、及び記憶媒体 审中-公开
气体输送装置,处理装置,处理方法和储存介质

ガス供給装置、処理装置、処理方法、及び記憶媒体
Abstract:
 ガス供給装置3は、縮径端32a側から拡径端32b側にガスを通流させるための概ね円錐形状のガス通流空間32を形成する本体部31と、ガス通流空間32の縮径端32a側に設けられ、ガス通流空間32にガスを導入するためのガス導入ポート61a~63a、61b~63b、64と、ガス通流空間32内に設けられ、ガス通流空間32を同心円状に区画する複数の区画部材41~46と、を備えている。一の区画部材42~46の末広がりの程度は、径方向内側に隣接する区画部材41~45の末広がりの程度より大きい。このことにより、従来のガスシャワーヘッドに比べてガス供給装置内部のガス流路におけるコンダクタンスを大きくして、そのガス流路におけるガスの置換性を向上させることができる。
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