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WO2010100750A1 トリクロロシラン冷却塔およびそれを用いたトリクロロシラン製造方法 审中-公开
三氯硅烷冷却塔及其生产三氯硅烷的方法

トリクロロシラン冷却塔およびそれを用いたトリクロロシラン製造方法
Abstract:
本発明は、反応生成ガスの冷却効率を大幅に改善できるトリクロロシラン冷却塔に関し、テトラクロロシランと水素とを含有する原料ガスを700~1400°Cの範囲の温度で反応させて得られるトリクロロシランを含有する反応生成ガスに平均液滴粒子径が2000μm以下の範囲の冷却液を噴霧して70~600°Cの温度範囲に急冷する一次冷却手段と、一次冷却手段の上方に設けられ、一次冷却後の反応生成ガスに冷却液をさらに噴霧して30~60°Cの温度範囲に冷却する二次冷却手段とを有する。
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