Invention Application
WO2011089892A1 硬質シリコーン樹脂の接着方法、微細構造を有する基板の接合方法および当該接合方法を利用したマイクロ流体デバイスの製造方法
审中-公开
用于粘结硬化硅树脂的方法,用于接合具有微细结构的基底的方法,以及使用该方法制造微流体装置的方法。
- Patent Title: 硬質シリコーン樹脂の接着方法、微細構造を有する基板の接合方法および当該接合方法を利用したマイクロ流体デバイスの製造方法
- Patent Title (English): Method for bonding hardened silicone resin, method for joining substrate having fine structure, and method for manufacturing micro fluid device using the method for joining.
- Patent Title (中): 用于粘结硬化硅树脂的方法,用于接合具有微细结构的基底的方法,以及使用该方法制造微流体装置的方法。
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Application No.: PCT/JP2011/000245Application Date: 2011-01-19
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Publication No.: WO2011089892A1Publication Date: 2011-07-28
- Inventor: 山本 貴富喜
- Applicant: 国立大学法人東京工業大学 , 山本 貴富喜
- Applicant Address: 〒1528550 東京都目黒区大岡山2-12-1 Tokyo JP
- Assignee: 国立大学法人東京工業大学,山本 貴富喜
- Current Assignee: 国立大学法人東京工業大学,山本 貴富喜
- Current Assignee Address: 〒1528550 東京都目黒区大岡山2-12-1 Tokyo JP
- Agency: 特許業務法人エム・アイ・ピー
- Priority: JP2010-165916 20100723; JP2010-008956 20100119
- Main IPC: B29C65/00
- IPC: B29C65/00 ; G01N37/00
Abstract:
本発明は、硬質シリコーン樹脂を接着するための新規な方法を提供する。さらに、本発明は、ナノサイズの凹凸構造が形成された主基板と蓋基板とを、当該凹凸構造を損なうことなく接合する方法、ならびに、当該接合方法を利用したナノ流路を備えるマイクロ流体デバイスの製造方法を提供する。硬質シリコーン樹脂からなる基板の表面を大気圧プラズマの照射あるいは真空紫外光の照射によって励起した後、硬質シリコーン樹脂基板の表面とガラス基板等を重ね合わせて押圧することによって、両基板を熱・接着剤フリーで接着することができる。また、蓋基板の接合面にシリコーンゴム組成物を塗布した後これを硬化させてシリコーンゴム層を形成した後、主基板の凹凸構造が形成された表面と蓋基板のシリコーンゴム層とを密着させた状態で、主基板側から紫外線を照射すると、接合界面にシリコン酸化膜が形成され、両基板が強固に固着する。
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