Invention Application
- Patent Title: 不織布およびその製造方法、吸収性物品
- Patent Title (English): Nonwoven fabric, method of manufacturing same, and absorbent article
- Patent Title (中): 非织造布,其制造方法和吸收性物品
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Application No.: PCT/JP2011/063431Application Date: 2011-06-06
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Publication No.: WO2012029372A1Publication Date: 2012-03-08
- Inventor: 木村 明寛 , 大庭 徹
- Applicant: ユニ・チャーム株式会社 , 木村 明寛 , 大庭 徹
- Applicant Address: 〒7990111 愛媛県四国中央市金生町下分182番地 Ehime JP
- Assignee: ユニ・チャーム株式会社,木村 明寛,大庭 徹
- Current Assignee: ユニ・チャーム株式会社,木村 明寛,大庭 徹
- Current Assignee Address: 〒7990111 愛媛県四国中央市金生町下分182番地 Ehime JP
- Agency: 青木 篤
- Priority: JP2010-194621 20100831
- Main IPC: D04H1/70
- IPC: D04H1/70 ; A61F13/49 ; A61F13/511 ; D04H1/54
Abstract:
吸収体に吸収された液が表面側に染み出るいわゆるリウェットバックが生じるのを抑制することがで きる不織布およびその製造方法を提供する。本発明の不織布1は、互いに直交するMD方向とCD方向 と厚さ方向とを有していて厚さ方向には表面とその反対面である裏面とを有し、表面にはMD方向へ互 いに並行して延びていてCD方向で起伏を繰り返すように交互に並ぶ山部2と谷部13aとが形成され 、裏面には一面に広がる裏面部3が形成されている不織布であって、山部3は山部2の頂部2aに位置 する山先端部21と、山先端部21と裏面部3とを連結する首部22とからなり、山部2のCD方向に おける断面で、山先端部21よりも首部22の断面幅が狭くなっており、隣接する山先端部21同士を それぞれ支えている2つの首部22と裏面部3とによって形成された谷部13aの空間を有する。
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