Invention Application
- Patent Title: 下地剤及びブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
- Patent Title (English): Primer and pattern forming method for layer including block copolymer
- Patent Title (中): 包含块状共聚物的层的形成和图案形成方法
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Application No.: PCT/JP2011/070729Application Date: 2011-09-12
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Publication No.: WO2012036121A1Publication Date: 2012-03-22
- Inventor: 先崎 尊博 , 太宰 尚宏 , 宮城 賢 , 藤川 茂紀 , 早川 晴美 , 小泉 真里
- Applicant: 東京応化工業株式会社 , 独立行政法人理化学研究所 , 先崎 尊博 , 太宰 尚宏 , 宮城 賢 , 藤川 茂紀 , 早川 晴美 , 小泉 真里
- Applicant Address: 〒2110012 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 Kanagawa JP
- Assignee: 東京応化工業株式会社,独立行政法人理化学研究所,先崎 尊博,太宰 尚宏,宮城 賢,藤川 茂紀,早川 晴美,小泉 真里
- Current Assignee: 東京応化工業株式会社,独立行政法人理化学研究所,先崎 尊博,太宰 尚宏,宮城 賢,藤川 茂紀,早川 晴美,小泉 真里
- Current Assignee Address: 〒2110012 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 Kanagawa JP
- Agency: 棚井 澄雄
- Priority: JP2010-205890 20100914; JP2010-205875 20100914
- Main IPC: C08L25/00
- IPC: C08L25/00 ; C08F12/02 ; C08K5/28 ; C08L33/06 ; C08L61/10
Abstract:
基板上に形成した複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分全体の構成単位のうち20モル%~80モル%が芳香族環含有モノマー由来の構成単位であることを特徴とする下地剤;及び基板(1)上に前記下地剤を塗布し、該下地剤からなる層(2)を形成する工程(1)と、複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層(3)を前記下地剤(2)からなる層表面に形成した後、前記ブロックコポリマーを含む層(3)を相分離する工程(2)と、前記ブロックコポリマーを含む層(3)のうち、前記ブロックコポリマーを構成する複数種類のポリマーのうちの少なくとも一種類のポリマーからなる相(3a)を選択的に除去する工程(3)と、を有することを特徴とするブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法。
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