Invention Application
- Patent Title: 水酸化マグネシウム微粒子及び酸化マグネシウム微粒子、並びにそれらの製造方法
- Patent Title (English): Magnesium hydroxide microparticles, magnexium oxide microparticles, and method for producing each
- Patent Title (中): 氢氧化镁微量元素,氧化镁微量元素和每种生产方法
-
Application No.: PCT/JP2011/072083Application Date: 2011-09-27
-
Publication No.: WO2012043564A1Publication Date: 2012-04-05
- Inventor: 大崎 善久
- Applicant: タテホ化学工業株式会社 , 大崎 善久
- Applicant Address: 〒6780239 兵庫県赤穂市加里屋字加藤974番地 Hyogo JP
- Assignee: タテホ化学工業株式会社,大崎 善久
- Current Assignee: タテホ化学工業株式会社,大崎 善久
- Current Assignee Address: 〒6780239 兵庫県赤穂市加里屋字加藤974番地 Hyogo JP
- Agency: 津国 肇
- Priority: JP2010-217166 20100928
- Main IPC: C01F5/22
- IPC: C01F5/22 ; C01F5/08
Abstract:
粒子径が小さく、かつ均一な高純度水酸化マグネシウム微粒子及び高純度酸化マグネシウム微粒子を提供する。 BET比表面積が5m 2 /g以上、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積50%粒子径(D 50 )が0.1~0.5μm、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積10%粒子径(D 10 )と体積基準の累積90%粒子径(D 90 )との比D 90 /D 10 が10以下である、純度99.5質量%以上の水酸化マグネシウム微粒子;並びにBET比表面積が5m 2 /g以上、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積50%粒子径(D 50 )が0.1~0.5μm、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積10%粒子径(D 10 )と体積の累積90%粒子径(D 90 )との比D 90 /D 10 が10以下である、純度99.5質量%以上の酸化マグネシウム微粒子である。
Information query
IPC分类: