发明申请
- 专利标题： 대칭형 유입구 및 유출구를 통해 반응가스를 공급하는 기판 처리 장치
- 专利标题（英）： Substrate processing device for supplying reaction gas through symmetry-type inlet and outlet
- 专利标题（中）： 通过对称型入口和出口提供反应气的基板处理装置
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申请号： PCT/KR2011/007400申请日： 2011-10-06
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公开(公告)号： WO2012047035A2公开(公告)日： 2012-04-12
- 发明人: 제성태 , 양일광 , 송병규 , 박송환
- 申请人： 주식회사 유진테크 , 제성태 , 양일광 , 송병규 , 박송환
- 申请人地址： 경기도 용인시 처인구 양지면 추계리 209-3, 449-824 Gyeonggi-do KR
- 专利权人： 주식회사 유진테크,제성태,양일광,송병규,박송환
- 当前专利权人： 주식회사 유진테크,제성태,양일광,송병규,박송환
- 当前专利权人地址： 경기도 용인시 처인구 양지면 추계리 209-3, 449-824 Gyeonggi-do KR
- 代理机构： 정성진
- 优先权： KR10-2010-0097151 20101006
- 主分类号： H01L21/205
- IPC分类号： H01L21/205
摘要：
본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판처리장치는 기판에 대한 공정이 이루어지는 챔버; 상기 챔버의 내부에 설치되며, 상기 기판이 놓여지는 기판지지대; 그리고 상기 챔버의 내부에 반응가스를 공급하는 유입구 및 상기 챔버 내부에 공급된 상기 반응가스를 배출하는 유출구가 대칭을 이루어 형성되는 샤워헤드를 구비하며, 상기 반응가스는 상기 챔버의 내부에서 상기 기판과 대체로 나란한 방향으로 흐른다.
IPC分类:
