Invention Application
- Patent Title: 濾過用フィルタの製造方法
- Patent Title (English): Method for producing filtration filter
- Patent Title (中): 生产过滤器的方法
-
Application No.: PCT/JP2011/076129Application Date: 2011-11-08
-
Publication No.: WO2012063953A1Publication Date: 2012-05-18
- Inventor: 守屋 剛 , 片岡 憲一 , 先崎 滋 , 島貫 洋一 , 狩野 和彦 , 和村 有 , 康 松潤 , 西村 栄一
- Applicant: 東京エレクトロン株式会社 , 守屋 剛 , 片岡 憲一 , 先崎 滋 , 島貫 洋一 , 狩野 和彦 , 和村 有 , 康 松潤 , 西村 栄一
- Applicant Address: 〒1076325 東京都港区赤坂五丁目3番1号 Tokyo JP
- Assignee: 東京エレクトロン株式会社,守屋 剛,片岡 憲一,先崎 滋,島貫 洋一,狩野 和彦,和村 有,康 松潤,西村 栄一
- Current Assignee: 東京エレクトロン株式会社,守屋 剛,片岡 憲一,先崎 滋,島貫 洋一,狩野 和彦,和村 有,康 松潤,西村 栄一
- Current Assignee Address: 〒1076325 東京都港区赤坂五丁目３番１号 Tokyo JP
- Agency: 別役 重尚
- Priority: JP2010-253080 20101111
- Main IPC: B01D71/02
- IPC: B01D71/02 ; B01D63/00
Abstract:
上水や淡水を手軽に得ることができる濾過用フィルタの製造方法を提供する。シリコンからなる基板１を、該基板１の表面上に形成された該表面の一部を露出させる多数の開口部を有するマスク膜を用いてエッチングして基板１に径が約１００ｎｍの多数の円孔２を形成し、形成された円孔２の内表面に酸化硅素膜３を堆積させて酸化硅素膜３によって縮小される円孔２の開口部近傍の最小径部４における径Ｄ１を１ｎｍ～１００ｎｍに調整する。
Information query
