Invention Application
- Patent Title: MEMBRANES NANOSTRUCTUREES ET LEURS UTILISATIONS
- Patent Title (English): Nanostructured membranes and uses thereof
- Patent Title (中): 纳米结构膜及其用途
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Application No.: PCT/FR2012/051002Application Date: 2012-05-04
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Publication No.: WO2012153050A1Publication Date: 2012-11-15
- Inventor: CLOCHARD, Marie-Claude , WADE, Travis , BESSBOUSSE, Haad , GALLINO, Enrico
- Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES , ECOLE POLYTECHNIQUE , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE , CLOCHARD, Marie-Claude , WADE, Travis , BESSBOUSSE, Haad , GALLINO, Enrico
- Applicant Address: 25, rue Leblanc Bâtiment « Le Ponant D » F-75015 Paris FR
- Assignee: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES,ECOLE POLYTECHNIQUE,CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE,CLOCHARD, Marie-Claude,WADE, Travis,BESSBOUSSE, Haad,GALLINO, Enrico
- Current Assignee: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES,ECOLE POLYTECHNIQUE,CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE,CLOCHARD, Marie-Claude,WADE, Travis,BESSBOUSSE, Haad,GALLINO, Enrico
- Current Assignee Address: 25, rue Leblanc Bâtiment « Le Ponant D » F-75015 Paris FR
- Agency: DIAS, Sonia et al.
- Priority: FR11 20110509
- Main IPC: B01D71/34
- IPC: B01D71/34 ; B01D67/00 ; G01N27/333 ; C08J5/22
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de préparation d'une membrane nanostructurée, ledit procédé comprenant les étapes de : i) Irradiation aux ions lourds d'un substrat polymère, ce par quoi des traces latentes du passage d'ions à travers toute l'épaisseur (e) du substrat polymère sont formées; et ii) Révélation chimique partielle desdites traces latentes, ce par quoi on obtient une membrane nanostructurée comprenant : - des nanopores dont la profondeur (p) est inférieure à l'épaisseur du substrat polymère (e); - des traces latentes résiduelles non révélées.
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