機械パッファ式消弧室１０には、固定主接触子２と、固定主接触子２と接離可能に開閉軸６０上を移動する可動主接触子１と、可動主接触子１内に設けられ遮断時には容積が縮小して内部の絶縁ガスを圧縮しこの圧縮された絶縁ガスをアークに吹き付ける機械パッファ室７とが設けられている。熱パッファ式消弧室１６には、固定接触子１２と、固定接触子１２と接離可能に開閉軸６０上を移動する可動接触子１３と、遮断時には内部の絶縁ガスがアークによる加熱で圧縮されこの圧縮された絶縁ガスをアークに吹き付ける熱パッファ室１５とが設けられている。機械パッファ式消弧室１０と熱パッファ式消弧室１６とが開閉軸６０上に直列に配置され、遮断部２２と遮断部２３とが電気的に直列に接続されている。